利用兆聲波技術的清洗、拋光、顯影、刻蝕等半導體濕法處理
超聲波清洗技術是最為常用的工業(yè)清洗技術之一，傳統(tǒng)的超聲波清洗技術是通過20kHz-100kHz的超聲波在液體中產(chǎn)生的空化作用，對物體表面的污漬進行去除而達到清洗的目的。但超聲波空化作用過強會對物體表面造成一定損傷，如在半導體器件、光學精密件等精密元器件的清洗中，由于器件表面有微結構，傳統(tǒng)高頻超聲波清洗會對其表面造成損壞。另外，超聲頻率越高，清洗的雜質(zhì)顆粒粒徑越小，最高頻率100kHz的傳統(tǒng)超聲波清洗很難清洗1微米以下的雜質(zhì)顆粒。
圖1：噴淋式兆聲清洗示意圖
頻率高于400kHz的超聲波在液體中傳播時，能使被清洗件表面附近形成速度梯度很大且極薄的聲學邊界層，其雜質(zhì)粒子受到液體兆赫頻的震蕩作用從器件表面脫落，能夠清洗掉元器件表面微米、亞微米級的雜質(zhì)顆粒，實現(xiàn)超精密清洗過程。此外，高頻超聲波清洗過程由于極低的空化效應，對被清洗件表面不會產(chǎn)生損傷，能夠有效解決精密元器件清洗后造成的腐蝕或損傷破壞等現(xiàn)象。所以能發(fā)射兆赫茲級別的兆聲裝置被廣泛應用于半導體制造領域，并且除了有清洗作用外，還可以在CMP化學機械拋光、顯影、除膠、金屬剝離、刻蝕等關鍵工藝中起到重要作用。
Siansonic（東方金榮）兆聲清洗技術典型應用領域
晶圓清洗
CMP化學機械拋光
顯影
刻蝕輔助
除膠
金屬剝離
Siansonic（東方金榮）自主知識產(chǎn)權的兆聲清洗機術突破了多年以來美國和日本在此行業(yè)的壟斷，已推出了400kHz到3000kHz（3MHz），包括槽式兆聲清洗、噴淋式兆聲清洗和貼合式兆聲清洗等的各種兆聲清洗裝置產(chǎn)品，可應對各種尺寸晶圓、MEMS等產(chǎn)品的濕法處理需求。
Siansonic（東方金榮）兆聲清洗裝置的優(yōu)勢
極低的空化效應不會對器件表面造成損傷
超高清洗精度，可去除0.2微米顆粒
全面非金屬高防腐材質(zhì)，適應各種酸堿及有機溶劑
石英或藍寶石清洗面，無雜質(zhì)脫落到器件上的風險
第三代半導體技術的兆聲發(fā)生器，全面實現(xiàn)數(shù)字化高頻大功率驅(qū)動
